鑫南光小編為大（dà）家介紹四川精密光刻機產品介（jiè）紹：

一（yī）、主要用（yòng）途：

本設備用於中小（xiǎo）規模集（jí）成電路、半導體元器件（jiàn）、聲表麵波器件研製和生產。找平機構穩定性高，找平力小。且應對特殊基片表現卓越，如易碎的砷化鉀、磷化銦等基片，以及非圓形、小型（xíng）基片時，可憑借找平力小的優（yōu）勢，能不損（sǔn）壞基片順（shùn）利曝光且滿足曝光需求。

二、主要技術參數 ：

1.適（shì）用於對Φ4″以下隻需一次曝光的各種（zhǒng）基片進行曝光，基片厚度要求0～5mm。

2.光源采（cǎi）用200W直流汞燈（dēng），曝（pù）光頭光（guāng）束不均勻（yún）性≤±6%（Φ100mm範圍以內）。

3.采用時間繼電器（可調（diào）節）控製曝光頭的快門。

4.具有兩個（gè）真空密著承片台（一個（gè）在曝光時，另一（yī）個可進行上下（xià）片的操作），根據用（yòng）戶需求，我公（gōng）司可製作圓形或方形真空密著承片台（tái）。

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