G-33E4型高精密光刻（kè）機

產品介紹：

設備概述

本設（shè）備廣泛用（yòng）於各大、中（zhōng）、小型企業（yè）、大專（zhuān）院校、科研單位，主要用於集（jí）成電路（lù）、半導（dǎo）體（tǐ）元器（qì）件、光電子器件、光學器件研（yán）製和（hé）生產,由於本機找平機構**，找平力小（xiǎo），使本機不僅適合矽片、玻璃片（piàn）、陶瓷片（piàn）的（de）曝光（guāng），而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一台（tái）雙麵對準單麵曝光（guāng）的光刻機,它（tā）不僅能完（wán）成普通光（guāng）刻機的任何工作（zuò）,同時還是一（yī）台檢查雙麵（miàn）對準精度的檢查儀。

主（zhǔ）要構成

曝光頭及部件圖

CCD顯微係統|X、Y、Q對準工作台（tái）

適用於110mm×110mm以下、厚度(包括非圓形基片

采用版不動，片動的下置式三（sān）層（céng）導軌對準（zhǔn）方式，使導軌自重和受力方向保持一致，自動（dòng）消除間隙；承片（piàn）台升降采用無（wú）間隙滾珠直進導軌、氣（qì）動式

4.可靠性（xìng）高
采用PLC控製、進口（日（rì）本產（chǎn））電磁閥和按鈕（niǔ）、獨特的氣動係統、真空管路係統和經過精密機械製造工藝加（jiā）工（gōng）的零件，使本機運行具有非常高的可靠性且操作、維（wéi）護、維修簡便。

5. 特設功能（néng）
除標準承片台外（wài），我公司還可以為用戶定（dìng）製專用承片台，來解決非圓（yuán）形（xíng）基片、碎片和底麵（miàn）不平（píng）的基片造成的版片分離（lí）不開所引（yǐn）起的版片無法對準的問題。

（1）高均勻蠅眼（yǎn）曝光頭。

a.采用350W直（zhí）流高壓球（qiú）形汞燈（dēng）；

b.曝光麵積：110mm×110mm；

c.曝光強度：≥20mW/cm²汞燈（進口）；

d.光源平行性（xìng）：≤3.5°；

e.照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm範圍（wéi））；

g.套刻精度：1μm

（2）觀察係統（tǒng）為上下各兩個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a. 單（dān）筒顯微鏡為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b. CCD攝像機靶麵對角線尺寸為：1/3″；

c. 采用19″液晶監視器，其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d. 觀察係統放大倍數為：1.6×57=91倍（*小倍數）

10×57=570倍（*大倍數）；