G-33E6型高精密光刻機

產品介紹（shào）：

設備概述

本設備廣（guǎng）泛用於（yú）各大、中、小（xiǎo）型企業、大專院校、科研單位，主要（yào）用於集成電路、半導體元器件、光電子器（qì）件（jiàn）、光學器件研製和生產,由（yóu）於本（běn）機找平機構**，找平力小，使本機不僅適（shì）合矽片、玻璃（lí）片、陶瓷片（piàn）的曝光，而且也適合易（yì）碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一台雙麵對準單麵曝光的光刻（kè）機,它不僅能完成普通光刻機的任何工作,同時還是一台檢查雙（shuāng）麵對準精度的檢查儀。

主要構成

主要（yào）由高精度對準工作台、雙目分離視場（chǎng）立式（shì）顯微鏡或雙目分離視場臥式顯微鏡（jìng）、數字式攝像頭、計算機成象（xiàng）記憶係統、6″高均勻性蠅眼專用曝光頭、

主要功（gōng）能特點

采用版不動，片動的下置（zhì）式三層導（dǎo）軌對準方式，使導軌自重和受力方向保持一致，自動消除間隙；承片台升降采用無間隙滾珠直（zhí）進導軌、氣動式

4.可（kě）靠（kào）性高
采用PLC控製、進口（日本產）電磁閥和（hé）按鈕、獨特的氣動係統（tǒng）、真（zhēn）空管路（lù）係統和經過（guò）精密機械製（zhì）造工藝加工的零件，使本機運行具有非常高的可靠（kào）性且操作、維護、維修簡（jiǎn）便。

5. 特設功能
 除標準承片台外，我公司還可以（yǐ）為用戶定製（zhì）專用承片台，來解決非圓形基（jī）片、碎片和底麵不平的基片造成（chéng）的版片分（fèn）離不開（kāi）所引起（qǐ）的版片無法對準的問題。

（1）高均勻蠅眼曝光頭。

a.高壓球形汞燈；

b.曝光麵（miàn）積：150mm×150mm；

c.曝光強度：≤20mW/cm²汞燈（進口）；

d.光源平行性：≤3.5°；

e.照明不均勻（yún）性： ±3%（ Φ100mm範圍）；±4%（Φ150mm範圍）；

g.套刻精（jīng）度：1μm

(2)觀察係統為上下各（gè）兩個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上（shàng）裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算（suàn）機到19″高清液晶顯視（shì）屏上。

a. 單筒顯微鏡（jìng）為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b. CCD攝像機靶麵對角（jiǎo）線尺寸為：1/3″；

c. 采用19″液晶監（jiān）視器，其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d. 觀察係統放（fàng）大倍數為：1.6×57=91倍（放小倍數）

 10×57=570倍（放大倍數）；