G-43B6型高精密單（dān）麵（miàn）光刻機

產品介紹（shào）：

設備概述:

本設備是我公司根據市場需求研（yán）發的產品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻，它特別適用做一（yī）次光刻的產品，可製作聲表麵器件、可控矽、小液（yè）晶顯示器、傳感器、二極管、園光（guāng）柵、編碼（mǎ）盤等。加之光均勻性好（Φ150mm範圍內≤±6%），所以大（dà）大提高了設（shè）備的光刻質量（liàng）

主要構成
主要由防（fáng）震工作台、高均勻性曝光頭、氣動係統、電氣控製係統、真（zhēn）空管路係統、直聯（lián）式真空泵及附件箱等組（zǔ）成。 1. 適用（yòng）範圍廣Φ150mm以下，厚度(包括非圓形基（jī）片

本設備配置有可實（shí）現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。3. 操（cāo）作簡便

采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動係統、真空管路係統和精密的機械（xiè）零件（jiàn），使（shǐ）本機具有非常高的可靠性（xìng）。5. 特設功能

主要技術（shù）參數：

1、操作方式：手動；

2、曝光模式：接觸式曝光；

3、出射光斑≤φ150mm；

4、紫外光源：g線（436nm）或i線（365nm）；

5、光強（qiáng）≥5mw/cm²（i線365nm; h線405nm; g線453nm的組合紫外光）；

6、曝光分辨率：3um；

7、曝光頭汞燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈。