G-43Y6型高精密單麵光刻機

產（chǎn）品介紹：

設（shè）備概述:

本設備是我公司根據市場需求研發的產品，通常情況下基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片（piàn）的外形、厚度要（yào）求較低（dī），可對多種材料的基片進行光刻（kè）。它特別適用進行一次光刻的產品,可製作聲表麵器件（jiàn）、可控矽、小液晶顯示器、傳（chuán）感（gǎn）器、二極管、園（yuán）光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片台或方形承（chéng）片台,不管哪（nǎ）一種承片台，都能實現“真（zhēn）空（kōng）密著”曝光,加之光均勻性好，所以大大提高光刻質量。 <span style="font-family:;" "="">
主要由防震工作台、高均勻性6"蠅眼曝光頭、氣動係統、電氣控製係（xì）統、真空管路係統、直聯式真空泵及附件箱等組成。

  適用於<span style="font-size:16px;font-family:;" "="">Φ6"以下，厚（hòu）度(包（bāo）括（kuò）非圓形基片
  2. 結構（gòu）穩（wěn）定

有真空掩膜版架、真空片吸盤。

本設備操（cāo）作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便

采用進口（kǒu）電磁閥、按鈕、定時器（qì）；采用獨特（tè）的氣動係統、真空管路係統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

除標準承片台外，還可以為用（yòng）戶定製專用（yòng）承片台，來解（jiě）決非圓形基（jī）片、碎片和底麵不平的基片造成的版片分離不（bú）開所引起（qǐ）的版片無法對準的問題<span style="font-size:12.0pt;font-family:;" "="">

主要技術參數：

1、操作方式：手動。

2、曝光模式：接觸式曝光（guāng）。

3、曝光麵積曝光麵積：150mm×150mm。

4、紫外光源：g線（436nm）和i線（365nm）

5、實現（xiàn）“真空密著”曝光，但基片（piàn）厚度≤2mm。

6、分（fèn）辨率：Φ100mm範圍內≤2um

7、照明不均（jun1）勻性： ±3%（ Φ100mm範圍）；±5%（ Φ150mm範圍）；

8、曝光光源：350W汞燈（進口）；

9、曝光強度：≤20mW/ cm²

10、光源平行性：≤3.5°；

11、樣品尺寸：Φ150mm。