G-43D4型高精密單麵（miàn）光刻機

產品介（jiè）紹：

設備概述:

本（běn）設備是我公司根據市場需求研發的產品，可以光刻Φ4"以下基（jī）片，對被光刻基片的外形、厚（hòu）度要求較低，可對多種材料的基片進行光刻。它（tā）特別適用進行一次（cì）光刻的產品,可製（zhì）作聲表麵器件、可控矽、小液晶（jīng）顯示器、傳感（gǎn）器、二極管、園光柵、編碼盤等。按用戶要求可提供（gòng）圓形承片（piàn）台或方形承片台,不管哪一種承片台，都能實現“真空密著”曝光（guāng）,加之光均勻（yún）性好，所以大大（dà）提高光刻質量。

曝光頭及部件圖

-主要構成
主要由防（fáng）震（zhèn）工作（zuò）台、高（gāo）均勻性<span style="font-family:" font-size:16px;"="">LED4"專用曝光頭、氣動係統、電氣控製係統、真（zhēn）空管路係統、直聯式（shì）真空泵及附件箱等組成。

主要功能特點

Φ100mm以下，厚度(包括非圓形基片

 

有真空掩膜版（bǎn）架、真空片吸盤。    3. 操作簡便  本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。    4. 設備運行（háng）穩定、可靠  采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動係統、真空（kōng）管路係統和精密的機械

  的基（jī）片造（zào）成的版片分離不開所引起的（de）版片（piàn）無法（fǎ）對（duì）準的問題（tí）<span style="font-family:;" "="">

主要技術參數：

1、操作方式（shì）：手動。

2、曝光模式：接觸式（shì）曝光。

3、曝光麵積：Φ4"，配置4"LED專用曝光（guāng）頭，紫（zǐ）外光源（yuán）壽命≥2萬小（xiǎo）時

4、紫外光源：365nm。

5、實現“真空密著”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分（fèn）辨率：2um

7、 光的不均勻（yún）性：≤±3%；

8、樣品尺寸：Φ100mm。

9、曝光強度（dù）：0～30mw/ cm²可調（此指標用紫外光源I線365nm測量）。