G-43D6型高精密單麵光（guāng）刻機

設備概述（shù）:

本設備是我公司根據市場需求研發（fā）的產品，可（kě）以光（guāng）刻Φ6"以下基（jī）片，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多（duō）種材（cái）料的基片進行光（guāng）刻。它特別適用進行一次光刻（kè）的產（chǎn）品,可製作聲表麵器件、可控矽、小液晶顯示器、傳感器、二極管（guǎn）、園光（guāng）柵、編碼盤等。按用戶要求可提供圓形承片（piàn）台或方形承片台,不管（guǎn）哪（nǎ）一種承片台，都能實現“真空密著”曝（pù）光,加之光均勻性好，所（suǒ）以大（dà）大（dà）提高光刻質量。

曝光頭及部件圖

主要構成<span style="font-family:" font-size:16px;"="">主（zhǔ）要由防震工作台（tái）、高均勻性（xìng）6"

1.適用範圍廣
      適用於Φ6"以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
      2.結構**
     本設（shè）備配置有可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密（mì）著機構；具（jù）有（yǒu）真空掩膜版架、真空片吸盤。
      3.操作簡便（biàn）
     本設備操作簡單，調試、維護、修理等都非常簡便。
     4.設備運行穩定、可靠
     采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用獨特的氣動係統、真空管路係統和精密的機械零件，使本機具（jù）有非常高的可靠（kào）性。
     5.特設功能
     除標準承片台外，還可（kě）以為用（yòng）戶定製專用承（chéng）片台，來解決非（fēi）圓形（xíng）基片、碎片和底麵不（bú）平的基片造成的版片分離不（bú）開所引起的版（bǎn）片無法對準的問題

主（zhǔ）要技術參數：

1、操（cāo）作方（fāng）式：手動。

2、曝光模式：接觸式（shì）曝光。

3、曝光麵積：Φ6"，配置6"LED專用曝光頭，紫（zǐ）外光源壽命≥2萬小時

4、紫外光源：365nm。

5、實現“真空密著”曝光，但基（jī）片厚度≤2mm。

6、分辨（biàn）率：2um

7、光的不均勻性：≤±3.5%；

8.樣品尺寸：Φ150mm。

9、曝光強度：0～30mw/cm²可調（diào）（此指標用（yòng）紫外光源I線365nm測（cè）量）